半导体激光器,这类激光器是以一定的半导体材料作工作物质而产生受激发射作用,其原理是通过一定的激励方式(电注入、光泵或高能电子束注入),在半导体物质的能带之间或能带与杂质能级之间,通过激发非平衡载流子而实现粒子数反转,从而产生光的受激发射作用;
DFB的半导体激光器和DFB光纤激光器可是截然不同的。dfb激光器是所谓分布反馈,也有两种,dfb激光器一种是均匀的分布反馈,其布拉格光栅是均匀周期的。dfb激光器另一种是有phase shift的DFB。在均匀周期布拉格光栅的某一个周期上延长一段,打破原本均匀性。
dfb激光器的设计在半导体激光器上比较常见,本质就是在半导体增益区上刻蚀光栅结构。在光纤激光器上其实也可以做DFB的设计,这个周期性的光栅结构就是通过紫外曝光的方式写在增益光纤纤芯。不过这就需要增益光纤的单位增益很高,