曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
曝光不足,导致单体聚合不,那么在显影过程中,显影时,通过感光鼓和显影辊之间的电场作用,碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位。曝光:经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板(即PCB)上。
蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
然后表面清洗和干燥显影就是在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程曝光:经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板(即PCB)上。显影:显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中,让影像显现的一个过程。通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。