沃特斯色谱柱色谱峰拖尾的很大一部分原因是，填料硅胶中含有金属离子杂质，在反相色谱分析中金属离子的主要影响作用方式有一下三种：

1. 螯环化合物与金属离子在硅胶表面的强螯合作用，使得分析中他们的分离度和灵敏度都大大下降，峰形严重拖尾；

2. 金属离子可以提高硅醇基的活性，使他们更偏酸性，加重了碱性化合物的拖尾，甚至可能导致峰形无法分辨；

3. 金属离子杂质的存在影响固定相与硅胶表面的键合强度，使固定相烷基在硅胶表面的分布不均匀，暴露的硅醇基和金属杂质离子更易于影响敏感的待测分析化合物。

所以，色谱填料硅胶中的杂质含量高低，是影响色谱峰拖尾的关键因素。

与普通填料金属杂质含量比较可以看出，其他普通填料的金属离子含量远高于液相色谱柱：

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