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钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统
仪器采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。
优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器，稳定，体积小巧，，匹配速度快
冷锥消除尾焰技术，地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。 实时监控仪器运行参数，CAN工业现场总线，保障通讯可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，的位置重现。
ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器,全谱段响应，高紫外量化效率，抗饱和溢出，具有极宽的动态范
围和极快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。
ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸，像素，单像素面积24μm X 24μm，三级半导体制冷,制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽，减少电磁辐射 连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗
钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数
1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm
2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）
3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶体管固态射频发生器，小巧有效
5. 40.68MHz频率提高信噪比，改善了检出限
6. 自动匹配调节
7. 全组装式炬管，降低了维护成本
8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵，具有快速清洗功能
9. 实验数据稳定性良好：重复性
RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD
≤2.0%（大于3小时）
由钢研纳克承担的国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”取得重要进展。本专项开发内容包括二维全谱高分辨ICP光谱仪和ICP质谱仪。目维全谱高分辨ICP光谱仪已解决了大面积CCD采集的瓶颈问题，接近于商品水平的产品样机将于年内完成；ICP质谱仪第二代研发样机已成功组装和调试，采集到正确的谱图，这一突破标志着在第二代样机上采用的自主设计的高真空系统、接口及离子传输系统以及射频发生器系统3个关键、难点技术已经实现原理攻克。为高质量、按期完成项目任务和本单位新产品开发任务奠定了坚实的基础。