平面抛光机行业此刻正遭遇新一轮的洗牌，传统的平面抛光机随着厂家越来越多，技术越来越透明，所能带来的利润也逐渐微薄。维护磨抛，是指在石材后期安装和应用过程中对石材光泽进行再处理。如何能突破瓶颈发展新的商机已是迫在眉睫。而国家扶持半导体的相关政策出来后，随着硅片生产厂商的积极响应，也给平面抛光机生产厂家带来了新的契机。
目前以平面抛光机厂家已经开始研发硅片磨抛技术，主要针对大尺寸硅片的研磨和抛光。体现在生活中，有手机外壳，不锈钢碗筷，不锈钢门窗……除了处理表面的外观光泽形态，其实不锈钢抛光还有另外一个目的，不锈钢之所以不容易生锈是因为这种金属是一种合金，采用多种金属按照比例融合而成的新型金属。但是在机会之余，我们也面临一些问题和挑战，相对国外而言，我们的技术是比较落后的，要想尽快有所成就还需要先向日本，德国等地学习，然后在此基础上进行改良和完善，以适用我们国内的生产环境。
a，抛光工作时间设定：根据抛光工件的需要来设定研磨工作时间，工作时间可由1秒至99分钟范围内任意设定。每一种工件的抛光时间，工程师会准确计算出来，客户可参照工程师给出的数据进行设置。
b，搅拌滴液系统：它的工作原理是搅拌启动抛光液会自动能过滴液管流到抛光盘上，根据要求可调节流量大小（具体调节见滴液泵说明书）。
c，压重操作：工件抛光的压力是由压重块提供，其升降由气缸实现，每个工位都有单独的气缸控制。
d，抛光盘：该机型的抛光盘转速为5-140rpm，抛光时转速不允许超过60rpm,否则会有工件飞溅出去以致人身伤害。
e，所有程序设置好后，启动设备开始工作。设备将自动进行抛光，到达抛光时间会停机。
f,加工完工件后需立刻移开工件，同时清理托盘。部分工件加工完后也需清洗，妥善保存，以防破碎，氧化等现象。
在模具抛光中，工艺相对复杂，流程可以分为粗抛、半精抛、精抛几步。模具抛光主要用机械抛光来进行是为了得到更好的产品质量与加工精度，而且相对于其它工艺，在成本上也相对廉宜。
在抛光的过程中，应该分开在两个工作地点来完成粗抛加工和精抛加工，而且要注意清洗干净上一道工序残留在工件表面的砂粒。由于小磨抛所使用的设备和材料限制，磨抛后得到的光泽程度也是较低的，所以我们会经常见到人们对石材再抛光后光泽下降和不均匀的抱怨。一般从油石到1200#砂纸完成粗抛光后，工件需转移到无尘间进行抛光，确保空气中无灰尘微粒粘在模具表面。如果要进行更为精密的高精密抛光或者超精密抛光，则必须在洁净的空间内。
在抛光工艺完成后，工件表面要做好防护工作，避免工件表面遭到损坏。当抛光过程停止时，应仔细去除所有研磨剂和润滑剂，保证工件表面整洁，随后应在工件表面喷涂一层模具防锈层。
